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    前道涂胶显影机 CD12-XC6C6D1A

    前道涂胶显影机 CD12-XC6C6D1A

    产品特点 1.堆叠式高产能架构，占地面积小；
    2.配备多段回吸的多腔体共用供胶系统，有效节省光刻胶的用量；
    3.选配高精度热板、WEE、AOI等单元部件，满足更高标准工艺需求；
    4.核心单元模块化设计，组合方式灵活多变，最大限度客制化；
    5.满足工厂FA自动化需求；
    6.可以与主流光刻机联机。

    产品应用

    应用范围：

    化合物半导体、功率器件、MEMS、射频集成电路、LED。


    产品参数

    片盒数量
    		4LP
    wafer 类型圆片
    wafer 尺寸（mm）200,300
    产能（WPH）120
    衬底材料Si、Glass
    适用工艺PI、I- line、Barc、SOG、SOC、KrF


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